主要用于硅片、石英、陶瓷、玻璃、晶體、石英晶體等泛半導體材料雙面高精密研磨與拋光。
性能優勢
研磨過程全自動控制;
工藝過程平穩運行;
采用觸摸屏,操作方便;
有限元分析設計,受力均勻,結構穩定;
自主操作系統,操作簡單,易學易懂;
自潤滑系統,自動給油,長期免維護;
豐富選配,適用多種材料加工模式。
雙面研磨/拋光機 | ||
型號 |
HDL/HDP-22B | |
設備尺寸 | W3800 x D3300 x H3600mm | |
設備重量 | 約11T | |
加工能力 | 直徑(或對角線尺寸) | Ø25~480mm |
厚度 | 0.3 ~ 50mm | |
支持系統 | 電源容量 | Max. 35kW |
電源電壓 | AC380V, 3P | |
壓縮空氣(供給壓力) | 0.6 MPa以上 | |
定盤 | 主電機 | 15kW(3 電機),11kW+7.5kW(4 電機) |
定盤尺寸 | Φ1460 x 484 x 50mm(研磨機) | |
Φ1488 x 456 x 55mm(拋光機) | ||
游星輪/ 載體 | 尺寸 | 齒數Z=184, 模數 M=3, 分度圓直徑552mm |
數量 | 5 |
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